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藥廠純水處理
藥廠純水處理技(ji)術方案
藥(yao)廠純水(shui)處(chu)理需滿足(zu)《中國藥(yao)典》和(he)GMP規(gui)范要求,通過(guo)多級工(gong)藝去除離子、微生物及(ji)有(you)機物,保障(zhang)水(shui)質(zhi)達到注射(she)用水(shui)或純化水(shui)標準(zhun)。以下基(ji)于(yu)工(gong)藝流程(cheng)、消毒管(guan)理及(ji)質(zhi)量控制的系統性總結:
一、?核心工藝流(liu)程?
-
?預處(chu)理系統?
- ?多介質過濾?:石英砂濾(lv)器(qi)去除(chu)懸浮物(SS≤5mg/L),活性炭吸附余氯和有機物(COD削減率≥30%)25。
- ?軟化處理?:鈉(na)離(li)子交換樹脂(zhi)降(jiang)低(di)硬度(總硬度≤0.03mmol/L),防止(zhi)反滲透(tou)膜結垢28。
-
?深度凈化系統?
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?二級反滲透(RO)?:
- 一級(ji)(ji)RO去除90%-99%離(li)子及微生物,二級(ji)(ji)RO提升(sheng)電導率至≤1.3μS/cm34。
- 濃水回(hui)收率(lv)≥80%,用于清潔或(huo)灌溉,降低(di)水耗(hao)78。
-
?連(lian)續電除鹽(yan)(EDI)?:
- 電(dian)場驅動離(li)子遷移,產水(shui)電(dian)阻率≥15MΩ·cm,滿足(zu)高純度水(shui)需求(qiu)34。
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?二級反滲透(RO)?:
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?終端(duan)處(chu)理?
- ?紫外線/臭氧(yang)消毒?:254nm紫外線殺(sha)(sha)滅微生(sheng)物(殺(sha)(sha)菌率≥99.9%),臭氧破壞(huai)生(sheng)物膜并降解有機(ji)物56。
- ?微孔(kong)過濾?:0.22μm濾(lv)膜截留(liu)殘余微粒,確保出水微粒數≤10個/mL8。
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